CVD/PVD ସାୱାରହେଡ୍ ପାଇଁ ଆଲୁମିନା ଗ୍ୟାସ୍ ବଣ୍ଟନ ପ୍ଲେଟ୍
ସେଣ୍ଟସେରାର ଗ୍ୟାସ୍ ବଣ୍ଟନ ପ୍ଲେଟ୍ (ସାୱାରହେଡ୍) ଉଚ୍ଚ-ଶୁଦ୍ଧତା 99.8% ଆଲୁମିନା ସେରାମିକ୍ ରୁ ସଠିକ୍ ଭାବରେ ମେସିନ୍ କରାଯାଇଛି। ଏଥିରେ ଏକ ପ୍ରକାର ମାଇକ୍ରୋ-ହୋଲ୍ (0.3-1.5 ମିମି ବ୍ୟାସ) ରହିଛି ଯାହା CVD, PVD, କିମ୍ବା ALD ପ୍ରକ୍ରିୟା ସମୟରେ ୱେଫର ପୃଷ୍ଠରେ ସମାନ ଗ୍ୟାସ୍ ପ୍ରବାହ ନିଶ୍ଚିତ କରେ। ପ୍ଲେଟର ଉଚ୍ଚ ଡାଇଲେକ୍ଟ୍ରିକ୍ ଶକ୍ତି (>15×10⁶ V/m) ଏବଂ ପ୍ଲାଜ୍ମା ପ୍ରତିରୋଧ ଏହାକୁ ଅର୍ଦ୍ଧପରିବାହୀ ପତଳା-ଫିଲ୍ମ ଜମା ପାଇଁ ଅତ୍ୟାବଶ୍ୟକ କରିଥାଏ।
ବିଶେଷତା:
| ସମ୍ପତ୍ତି | ମୂଲ୍ୟ |
| ସାମଗ୍ରୀ | ୯୯.୮% Al₂O₃ କିମ୍ବା SiC |
| ବ୍ୟାସ | ୧୦୦ - ୧୫୦୦ମିମି (ଗୋଲ) କିମ୍ବା ଆୟତାକାର |
| ଘନତା | ୫ – ୨୦ ମିମି |
| ଗାତ ବ୍ୟାସ | ୦.୩ – ୧.୫ ମିମି |
| ଗାତ ଢାଞ୍ଚା | କଷ୍ଟମ୍ (ତ୍ରିକୋଣାକାର, ବର୍ଗାକାର, ରେଡିଆଲ୍) |
| ସମତଳତା | ପୂର୍ଣ୍ଣ କ୍ଷେତ୍ରଫଳ ଉପରେ ≤10 μm |
| ପୃଷ୍ଠର ରୁକ୍ଷତା | Ra ≤0.6 μm (ଗ୍ୟାସ୍ ପାର୍ଶ୍ୱ) |
| ଖୋଲା କ୍ଷେତ୍ର ଅନୁପାତ | ୫-୧୫% |
ପ୍ରୟୋଗ:
PECVD ସାୱାରହେଡ୍ ପ୍ଲେଟ୍
ALD ଗ୍ୟାସ୍ ଇଞ୍ଜେକ୍ଟର୍
ଏଚ୍ ଚାମ୍ବର ଗ୍ୟାସ୍ ବଣ୍ଟନ ପ୍ଲେଟ୍
MOCVD ରିଆକ୍ଟର ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକ
ଉତ୍ପାଦନ:
ଆଲୁମିନା ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ଫ୍ଲାଟ୍ ଲାପ୍ଡ୍ → ହୀରା-ପ୍ରଲେପିତ ଉପକରଣ ସହିତ CNC ଡ୍ରିଲିଂ (ଗର୍ତ୍ତ ସ୍ଥିତି ସହନଶୀଳତା ±0.02 ମିମି) → ଡିବରିଂ → ଅଲ୍ଟ୍ରାସୋନିକ ସଫା କରିବା → ଶ୍ରେଣୀ 100 ପ୍ୟାକେଜିଂ।
ଗୁଣବତ୍ତା ନିୟନ୍ତ୍ରଣ:
ପ୍ରତ୍ୟେକ ପ୍ଲେଟ୍ ଗାତ ଆକାର (ଦୃଷ୍ଟି ପ୍ରଣାଳୀ), ସମତଳତା (ଲେଜର ଇଣ୍ଟରଫେରୋମିଟର), ଏବଂ ଗ୍ୟାସ ପ୍ରବାହ ସମାନତା (ଚାପ ମ୍ୟାପିଂ) ପାଇଁ 100% ଯାଞ୍ଚ କରାଯାଏ। 20x ମାଇକ୍ରୋସ୍କୋପ ତଳେ କୌଣସି ମାଇକ୍ରୋ-କ୍ରାକ୍ ନାହିଁ।
ଧାତୁ ପ୍ଲେଟ ଉପରେ ଲାଭ:
ପତଳା ଫିଲ୍ମରେ କୌଣସି ଧାତବ ପ୍ରଦୂଷଣ ନାହିଁ
କଣିକା ସୃଷ୍ଟି କମ୍ (କ୍ଷୟ ଫ୍ଲେକ୍ସ ନାହିଁ)
ଆକ୍ରମଣାତ୍ମକ ସଫା ପ୍ଲାଜମା (CF₄, NF₃) ସହ୍ୟ କରେ
କଷ୍ଟମ୍ ବୈଶିଷ୍ଟ୍ୟଗୁଡ଼ିକ:
ପଛ ପାର୍ଶ୍ୱ ଗ୍ୟାସ୍ ଚ୍ୟାନେଲ, କାଉଣ୍ଟର-ବୋର୍ଡ୍ ହୋଲ୍, ଧାର ସିଲ୍, ଏବଂ ବିଭିନ୍ନ ସାମଗ୍ରୀ ଗ୍ରେଡ୍ (ଉଚ୍ଚ ତାପଜ ପରିବାହିତା ପାଇଁ SiC, ପ୍ଲାଜମା ପ୍ରତିରୋଧ ପାଇଁ Y₂O₃ ଆବରଣ)।
ଆମେ ଉତ୍ପାଦନ ପୂର୍ବରୁ CAD ଯାଞ୍ଚ ଏବଂ ପ୍ରବାହ ସିମୁଲେସନ୍ ପ୍ରଦାନ କରୁ।
