CVD / PVD ପ୍ରକ୍ରିୟା ଚାମ୍ବର ପାଇଁ ଉଚ୍ଚ-ପବିତ୍ରତା ଆଲୁମିନା ସେରାମିକ୍ ରିଙ୍ଗ
ସେଣ୍ଟସେରାର ସିରାମିକ୍ ରିଙ୍ଗ ବିଶେଷ ଭାବରେ CVD (ରାସାୟନିକ ବାଷ୍ପ ଜମା) ଏବଂ PVD (ଭୌତିକ ବାଷ୍ପ ଜମା) ପ୍ରକ୍ରିୟା ଚାମ୍ବରରେ ବ୍ୟବହାର ପାଇଁ ଡିଜାଇନ୍ କରାଯାଇଛି। 99.8% ଉଚ୍ଚ-ପବିତ୍ରତା ଆଲୁମିନା (Al₂O₃) ରୁ ନିର୍ମିତ, ଏହି ରିଙ୍ଗ ପ୍ଲାଜମାକୁ ସୀମିତ କରିବା ଏବଂ ଚାମ୍ବର କାନ୍ଥକୁ କ୍ଷୟରୁ ରକ୍ଷା କରିବା ପାଇଁ ଏକ ଚାମ୍ବର ଲାଇନର, ଫୋକସ୍ ରିଙ୍ଗ କିମ୍ବା ପ୍ରକ୍ରିୟା କିଟ୍ ଉପାଦାନ ଭାବରେ କାର୍ଯ୍ୟ କରେ। ଏହି ସାମଗ୍ରୀ ଉତ୍କୃଷ୍ଟ ପ୍ଲାଜମା ପ୍ରତିରୋଧ, ଉଚ୍ଚ ଡାଇଇଲେକ୍ଟ୍ରିକ୍ ଶକ୍ତି (15×10⁶ V/m), ଏବଂ 1600°C ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ତାପଜ ସ୍ଥିରତା ପ୍ରଦାନ କରେ, ଯାହା ଆକ୍ରମଣାତ୍ମକ ଫ୍ଲୋରାଇନ୍-ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଜମା ପରିବେଶରେ ଦୀର୍ଘ ସେବା ଜୀବନ ସୁନିଶ୍ଚିତ କରେ। ସଠିକ୍ ଡାଇମେନ୍ସନାଲ ସହନଶୀଳତା (ID/OD ରେ ±0.05 mm) ଏବଂ ସମତଳତା (≤10 μm) ସ୍ଥିର ୱେଫର ଧାର ସ୍ଥିତିକରଣକୁ ସକ୍ଷମ କରେ, ଜମା ସମାନତାକୁ ଉନ୍ନତ କରେ ଏବଂ କଣିକା ସୃଷ୍ଟିକୁ ହ୍ରାସ କରେ।
ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟକରଣ (୯୯.୮% Al₂O₃ ଉପରେ ଆଧାରିତ):
| ସମ୍ପତ୍ତି | ମୂଲ୍ୟ |
| ସାମଗ୍ରୀ | ୯୯.୮% ଆଲୁମିନା (ହାତୀଦାନ୍ତ) |
| ଘନତ୍ୱ | ୩.୯୩ ଗ୍ରାମ/ସେମି³ |
| ଜଳ ଅବଶୋଷଣ | 0% |
| ନମନୀୟ ଶକ୍ତି | ୩୬୧ ଏମ୍ପିଏ |
| ଫ୍ରାକ୍ଚର କଠୋରତା | ୩–୪ ମେଗାପିଲା·ମି¹/² |
| ଭିକରସ୍ କଠିନତା | ୧୬ ଜିପିଏ |
| ୟଙ୍ଗଙ୍କ ମଡ୍ୟୁଲସ୍ | ୩୮୦ ଜିପିଏ |
| ତାପଜ ପରିବାହିତା | ୩୨ ୱାଟ୍/ମି·କିଲୋମିଟର |
| ତାପଜ ବିସ୍ତାର (୨୫-୧୦୦୦°C) | ୭.୨×୧୦⁻⁶/℃ |
| ଡାଇଲେକ୍ଟ୍ରିକ୍ ଶକ୍ତି | ୧୫×୧୦⁶ ଭ/ମି |
| ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ପ୍ରତିରୋଧ | >୧୦¹⁴ Ω·ସେମି |
| ସର୍ବାଧିକ କାର୍ଯ୍ୟକ୍ଷମ ତାପମାତ୍ରା | ୧୬୦୦°C |
ପ୍ରୟୋଗ:
- · CVD ଚାମ୍ବର ଫୋକସ୍ ରିଙ୍ଗ ଏବଂ ଏଜ୍ ରିଙ୍ଗ
- · PVD ଚାମ୍ବର ସିଲ୍ଡ ରିଙ୍ଗ ଏବଂ କ୍ଲାମ୍ପ ରିଙ୍ଗ
- · ଏଚ୍ ଚାମ୍ବର ଲାଇନର ଏବଂ କଭର ରିଙ୍ଗ
- · ଡାଇଇଲେକ୍ଟ୍ରିକ୍ ଏଚ୍ ସିଷ୍ଟମରେ ପ୍ଲାଜମା କନଫାଇନ୍ମେଣ୍ଟ ରିଙ୍ଗ
ଉତ୍ପାଦନ ପ୍ରକ୍ରିୟା:
ଆଇସୋଷ୍ଟାଟିକ୍ ପ୍ରେସିଂ → ସବୁଜ ମେସିନିଂ → 1600°C ରେ ସିଣ୍ଟରିଂ → CNC ID/OD ଗ୍ରାଇଣ୍ଡିଂ → ପୃଷ୍ଠ ଲାପିଂ → ଅଲ୍ଟ୍ରାସୋନିକ୍ ସଫା କରିବା → 100% CMM ଯାଞ୍ଚ। ଅଲ୍ଟ୍ରା-ସ୍ମୁଥ୍ ପୃଷ୍ଠ ଫିନିସ୍ (Ra ≤0.4 μm) କଣିକା ଆଡ଼ଜେସନକୁ କମ କରିଥାଏ।
ଗୁଣବତ୍ତା ନିୟନ୍ତ୍ରଣ:
- · ୧୦୦% ଡାଇମେନ୍ସନାଲ ଯାଞ୍ଚ (ଆଇଡି, ଓଡି, ଘନତା, ସମତଳତା)
- · ପୃଷ୍ଠର ମାଇକ୍ରୋ-ଫଟା ପାଇଁ ଡାଇ ପେନେଟ୍ରାଣ୍ଟ ଯାଞ୍ଚ
- · ASTM D149 ଅନୁସାରେ ଡାଇଲେକ୍ଟ୍ରିକ୍ ଶକ୍ତି ପରୀକ୍ଷା
- · 20× ମାଇକ୍ରୋସ୍କୋପ ତଳେ କୌଣସି ଦୃଶ୍ୟମାନ ରଙ୍ଗହୀନତା କିମ୍ବା ଛିଦ୍ରତା ନାହିଁ
ଧାତୁ କିମ୍ବା କ୍ୱାର୍ଟଜ୍ ରିଙ୍ଗ ଅପେକ୍ଷା ଲାଭ:
- · ଫ୍ଲୋରାଇନ୍ ପ୍ଲାଜମାରେ ଆଲୁମିନିୟମ୍ ରିଙ୍ଗ୍ ଅପେକ୍ଷା 5-10× ଅଧିକ ଜୀବନକାଳ
- · ପତଳା ଫିଲ୍ମରେ କୌଣସି ଧାତୁ ପ୍ରଦୂଷଣ ନାହିଁ
- · କ୍ୱାର୍ଟଜ୍ ଅପେକ୍ଷା ଅଧିକ ପ୍ଲାଜମା ପ୍ରତିରୋଧ (କୌଣସି କ୍ଷୟ ଗାତ ନାହିଁ)
- · ଦୀର୍ଘ ସମୟ ବ୍ୟବହାର ପରେ ମଧ୍ୟ 10¹⁴ Ω·ସେମିରୁ ଅଧିକ ବୈଦ୍ୟୁତିକ ଇନସୁଲେସନ ବଜାୟ ରଖେ।
ବିକଳ୍ପ ସାମଗ୍ରୀ — ସିଲିକନ୍ ନାଇଟ୍ରାଇଡ୍ (Si₃N₄):
ଅଧିକ ଫ୍ରାକ୍ଚର କଠିନତା (6.2 MPa·m¹/²) ଏବଂ ଉନ୍ନତ ତାପଜ ଆଘାତ ପ୍ରତିରୋଧ (ବିସ୍ତାର ଗୁଣାଙ୍କ 3.2×10⁻⁶/℃) ଆବଶ୍ୟକ କରୁଥିବା ପ୍ରୟୋଗଗୁଡ଼ିକ ପାଇଁ, Si₃N₄ ରିଙ୍ଗ୍ ଉପଲବ୍ଧ। ତଥାପି, ଅଧିକାଂଶ CVD/PVD ପ୍ରୟୋଗ ପାଇଁ ଆଲୁମିନା ଅଧିକ ମୂଲ୍ୟ-ପ୍ରଭାବଶାଳୀ। ଅର୍ଡର କରିବା ସମୟରେ ଦୟାକରି ସାମଗ୍ରୀ ପସନ୍ଦ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ କରନ୍ତୁ।
କଷ୍ଟମାଇଜେସନ୍:
- · ମାଉଣ୍ଟିଂ ପାଇଁ ହୋଲ୍, ଷ୍ଟେପ୍ ପ୍ରୋଫାଇଲ୍ କିମ୍ବା କାଉଣ୍ଟରବୋର ମାଧ୍ୟମରେ
- · ବର୍ଦ୍ଧିତ ପ୍ଲାଜମା ପ୍ରତିରୋଧ ପାଇଁ Y₂O₃-ଆବରଣଯୁକ୍ତ ପୃଷ୍ଠ (ଇଚ୍ଛାଧୀନ)
- · ଅଂଶ ସଂଖ୍ୟା / ଲଟ୍ କୋଡର ଲେଜର ଖୋଦନ
ଟିପ୍ପଣୀ:ଉପରୋକ୍ତ ତଥ୍ୟ ଯୋଗାଣ କରାଯାଇଥିବା Al₂O₃ ଗୁଣଧର୍ମ ସାରଣୀକୁ କଡ଼ାକଡ଼ି ଅନୁସରଣ କରେ। Si₃N₄ ରିଙ୍ଗ୍ ପାଇଁ, ପ୍ରଦାନ କରାଯାଇଥିବା ପୃଥକ Si₃N₄ ଡାଟାସିଟ୍ ଦେଖନ୍ତୁ।
